Esta semana, Intel se está preparando para presentar su próxima tecnología de proceso Intel 4, que es el estándar de 7 nm para procesos de semiconductores.
Este será el primer nodo de proceso de Intel que aprovecha la litografía EUV y se dice que produce ganancias de rendimiento de más del 20 % con el mismo consumo de energía que Intel 7 ahora. Los chips basados en Intel 4 serán Meteor Lake de 14 generación, cuya producción está programada para el segundo trimestre del próximo año.
Nuevo nodo de proceso Intel 4
En el evento IEEE Symposium on VLSI Technology & Circuits de este año, Intel se está preparando para lanzar su tan esperado nodo de proceso basado en EUV: la tecnología Intel 4 que puede superar a la competencia. De los documentos filtrados sobre los que Intel va a hablar, hemos llegado a saber que su próximo nodo de proceso: Intel 4 – duplicar la densidad de transistores alcanzable en relación con Intel 7.
Intel 4
-1.8-2.0x escala HP
-40-50 % menos de potencia, +12 % de rendimiento máximo (@davidbepo)
-4:3 despoblación de aletas
-Contacto de segunda generación sobre la puerta
-Puerta ficticia simple de segunda generación
-eCu = barrera Ta/Co + Cu puro
-2x Escalado de tapa MIM (10x frente a 14nm)
-18 capas (+1)
-EUV: -20 % máscaras, -5 % pasos totales (frente a 7) pic.twitter.com/325HwQEKug– witeken (@witeken) 11 de junio de 2022
Intel 7 es lo que tenemos ahora, donde los chips se basan en Enhanced Super Fin (10ESF) de 10 nm. En comparación con él, se dice que los próximos chips basados en nodos de proceso Intel 4 funcionan un 20% mejor, con la misma tasa de consumo que Intel 7.
Además, incluso se dice que Intel 4 reduce el consumo de energía en un 40% en comparación con su predecesor. Todo esto se debe a que Intel finalmente está aprovechando la litografía EUV (ultravioleta extrema o rayos X suaves) en lugar de la actual litografía de inmersión UV profunda.
Esto ha atascado durante mucho tiempo el rendimiento de los chips Intel, pero la empresa siguió utilizando la litografía ultravioleta profunda para reducir los costes de fabricación. Pero ahora, con Pat Gelsinger, CEO de Intel, la compañía finalmente está utilizando la litografía EUV más eficiente para producir su próximo nodo de proceso: Intel 4.
Intel combinó este nuevo nodo con la arquitectura de CPU del cliente Meteor Lake de 14.ª generación, y la producción de chips basados en él comenzará el próximo año. Intel compartirá más detalles sobre los chips Meteor Lake en la conferencia Hot Chips 34, programada para agosto.
